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    浅析硅晶圆生产为何需要应用超纯水设备?

    时间:2024-07-01

      前言:熟悉半导体领域的人都会了解硅晶圆,硅晶圆是半导体的核心,也是成本占比最高的材料,对纯度也有超高要求,是一种为了制成半导体积体电路的原材料。本文浅析一下硅晶圆生产为何需要应用超纯水设备。

      硅晶圆作为半导体的核心部件,其在制造过程中需要应用超纯水设备的原因有以下几点:

      1.对于清洁度的要求。硅晶圆制造过程中对水质清洁度要求非常高。普通水中的杂质和离子可能会影响到硅晶圆的品质和性能,因此需要使用超纯水来清洗和加工硅晶圆。

      2.制作中需要使用表面活性剂来清洗硅晶圆表面的污垢和油脂。这些表面活性剂对水的纯净度要求非常高,应用高度纯净的超纯水,使表面活性剂能够充分发挥作用,有效清洗硅晶圆表面的污垢和油脂。

      3.生产效率在硅晶圆制造过程中,使用超纯水设备可以显著提高生产效率。高度纯净的超纯水可以快速蒸发,使硅晶圆更快地干燥和冷却,从而缩短生产周期和提高生产效率。

      简而言之,就是为了提高硅晶圆质量需要使用超纯水设备。我国虽然半导体材料产业起步较晚,但是发展比较迅猛。那么什么样的超纯水设备才能产出高质量的超纯水呢?

    超纯水设备

      目前常见的超纯水设备核心工艺为“预处理+反渗透+EDI+抛光混床”的组合形式。该超纯水设备具有高效低能、运行成本低,水资源利用率高、体积较小、维修量小,运行时间长等优点。这样的超纯水设备在运行时是不需要添加任何化学品的,不仅减少了化学品运输问题,同时降低了系统运行费用。并且设备不会有酸碱废液产生,所以不需要酸碱中和池,一般情况下产出的浓水完全可以回收再利用,并且采用的设计结构相对靠紧,所以其占地非常小,可以为企业节省很多空间。

      超纯水设备可以更好的,连续的,稳定地制备高品质的超纯水,完全符合硅晶圆生产用水水质标准。随着我国科技半导体产业的不断发展与壮大,对于硅晶圆的产出质量要求也会越来越高,所以对于使用超纯水设备要求也会提高,这也将带动相关产业的发展。

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      编辑:新奇   技术:加菲

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