为什么半导体加工生产中会应用到超纯水?
我们都知道,半导体在加工生产的过程中会需要一定量的超纯水,对于其品质的要求也是极高的。那什么是超纯水呢?超纯水是指一种电阻率达到18 MΩ*cm的一种水,这类水几乎没有什么杂质,不含有任何细菌、病毒等有机物,完全可用在半导体领域。这样的超纯水普通工艺基本很难制取出来,并且对于超纯水制取的标准也是极其严格的。
对比传统超纯水生产工艺,现如今应用的超纯水设备多是采用膜技术,再应用反渗透+EDI系统+抛光混床相结合的工艺来制取超纯水,具有运行成本低,运行可靠的优点,出水水质符合国家电子级超纯水标准GBT11446.1-2013EW-Ⅰ标准。
超纯水设备引人注目的优点:
1、有效降低水质的离子含量
EDI是一种将离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术,无需酸碱再生,是一种新型的脱盐方式。EDI无需再生化学品的再生,运行成本低,EDI系统的自动化程度很高,连续工作,出水水质好且稳定,出水电阻率≥15MΩ·CM。
2、高品质高回收率
设备采用曲线微导力技术,应用超纯水膜元件,在抛光段采用陶氏进口抛光树脂以及自主研发的除硼专用树脂,在保证系统高回收率的同时,有效提高系统的产水水质。
3、自动化程度高、运行费用低
自动化程度高,遇故障立即自停,具有自动保护功能,且能耗低、水利用率高、运行成本低。
超纯水设备因其结构设计比较紧凑,占地面积小,可以为企业节省大量的空间得到了许多半导体行业的欢迎。可广泛运用于电子芯片、集成电路及封装、光伏、晶圆、科研、航空航天、半导体等领域。
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编辑:虞美人 技术:米
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